ハロゲンフリー分析

電子材料などハロゲン化合物は、従来よりハロゲン系難燃剤材料として、樹脂材料をはじめ、広く使用されてきましたが、これらは燃焼時に有害なガスを発生することから、法規制を中心としたハロゲン系難燃剤や三酸化アンチモンを使用しないハロゲンフリー・アンチモンフリー化が強く求められています。 日本電子回路工業会（JPCA）、米国電子回路協会（IPC）では一般的に塩素・および臭素がその対象となり塩素900 ppm 臭素 900ppm 塩素+臭素1500ppm の定義となっています。さらなる信頼性の向上と低コスト化を見据えながら技術開発が進められる中、OKIエンジニアリングでは、材料中に含まれるフッ素[F]、塩素[Cl]、臭素[Br]などのハロゲンフリー・アンチモンフリー分析・評価をご提供します。

• ハロゲンフリ－分析（酸素フラスコ燃焼法）の詳細はこちら（PDFファイル 305KB）

ハロゲンフリー分析手法（酸素フラスコ燃焼法）

当社での分析手法は、酸素フラスコ燃焼法前処理＋イオンクロマトグラフ法で、試料を燃焼させて、吸収液中（水またはアルカリ吸収液を入れたフラスコ内）のイオンクロマトなどで測定し、ハロゲン含有量を求める方法でハロゲンフリー分析を実施しています。

酸素フラスコ燃焼法前処理＋イオンクロマトグラフ法によるハロゲンフリー分析

酸素を満たしたフラスコ内で試料を燃焼分解し、発生したガスをフラスコ内の吸収液に溶解させて分析試料とし、イオンクロマト法などで測定します。

※　報告下限値は、妨害物質の存在等により高くなる場合があります。また、硫黄、リンなども分析可能です。

アンチモンフリー分析

三酸化アンチモン（アンチモンとして） をマイクロウェーブ分解法-ICP質量分析法で分析・評価いたします。お気軽にお問い合わせください。

• 化学分析（RoHS・REACH・環境）
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