半導体製造排ガス処理装置、排水処理・回収再利用装置など工場ユーティリティに求められるものは、安定供給・安定稼動だけでなく、環境に配慮したユーティリティ設備である事が求められる時代になりました。OKIエンジニアリングでは工場から排出される水・ガスについて自社にてサンプリング・分析を行い、各工場にマッチした環境装置を設計・提案し、施工・メンテナンスまでサービス提供いたします。
半導体、太陽電池、その他の事業における高負荷・大流量な特殊排ガス(半導体材料ガス等)やリサイクル困難な排水処理、もしくは有価物回収や超純水設備など、さまざまな経験を基に時代に要求される新しい提案を行います。
半導体、液晶、太陽電池それぞれの製造時(成膜、エッチング、クリーニング等)に使用されるガス種はとても類似しています。排ガス処理方法について、生産装置台数が多い民生用の太陽電池製造では、まとめて大流量処理できる『燃焼式除害装置+湿式排ガス処理装置』をご提案します。また、湿式排ガス処理装置の問題点である、排水量が多いフッ素系排水処理や産廃処分などを解決するために排水量を削減する『排水リサイクルシステム』をご紹介します。
当社は、オフィス、ファクトリ、ゾーンに関する環境測定を行うとともに、結果に基づくソリューションを提供します。また、安全・衛生管理の改善に関する技術支援も実施しています。
工場ユーティリティ設備・環境全体のシステム改善の流れ
半導体製造・太陽電池製造、その他高負荷・大流量な排ガスに特化した湿式排ガス処理装置(※1)を提供します。(半導体製造等に使用される、特殊材料ガス対応)環境対策と安全性の向上とメンテナンス軽減に有効です。排ガス中の有害物質(シラン、TEOS、PFC、F等)を除去します。お客様のニーズにお応えし、環境システムのカスタム設計を行います。
成膜系、エッチング系、クリーニング系等の各種半導体材料ガスおよび特殊ガスを湿式にて除害処理するスクラバーです。高負荷、大流量プロセス排気として100slm単位、キャリア含め1000slm単位まで処理実績があります。
設備種類 | 方式名称 | |
---|---|---|
常圧CVD装置 (APCVD) |
テトラエトキシシラン(TEOS) | 分離・吸収方式 |
シラン(SiH4) | 横型湿式方式 | |
エピタキシャル成膜装置 (Epitaxial) |
トリクロロシラン(TCS)、ジクロロシラン(DCS) | 高圧水洗方式 |
ドーピング装置 (Doping) |
ホスフィン(PH3)、アルシン(AsH3) | 大風量吸着方式 |
CF・UF・NF・RO・IE等との組み合わせのクローズド方式による排水回収・再利用処理装置です。環境対策と省資源を目的とします。お客様のニーズにお応えし、環境システムのカスタム設計を行います。
排水処理システム
種類 | 名称 |
---|---|
重金属系 | 凝集沈殿・金属回収システム |
F系 | 低汚泥システム |
研磨系 | CF・RO併用システム |
CMP | 膜処理応用システム |
界面活性剤濾過装置
油分・SSを含んだシリコンウエハ洗浄用界面活性剤の濾過再利用装置です。高性能セラミックフィルターと遠心分離器併用により、自動洗浄装置対応・全自動化を特長とし、このリサイクルは優れた経済効果をもたらすばかりでなく、現在の製造業に期待される省資源・環境保全にも大きく貢献します。
水洗浄装置
プリント基板・BGA/CSP用水系洗浄を対象とした洗浄・すすぎ・乾燥完全自動処理インライン小型洗浄装置です。装置に内蔵したROによる低排水システムを採用しています。お客様のニーズにお応えし、環境システムのカスタム設計を行います。
排水処理装置
工場排水・排ガス処理施設の定期点検や、耐久予測に基づいた部品交換・修理改修を行い、施設の寿命延長だけではなく、稼働時の事故による設備停止・未処理水流出、未処理ガス大気拡散等を未然に防止します。お客様のニーズにお応えし、環境システムのカスタム設計を行います。