半導体製造・液晶ディスプレイ製造・太陽電池(PV)製造の生産過程ではシリコン・CMP(chemical Mechanical Polishing)洗浄のため大量の純水を必要とします。また、湿式排ガス処理装置により大量のフッ素系排水が発生しますがこの排水は浄化処理することで、水資源保全の観点から最大限の水の再利用が可能です。
OKIエンジニアリングでは半導体製造・液晶ディスプレイ製造・太陽電池(PV)製造等の工場に工程排水リサイクルシステムを設置、製造工程排水を純水に再生し、循環利用することで産廃処分費の削減、グリーンファクトリー(環境配慮型工場)対策を計ります。排水処理システム全般に関するプランニングおよび現地調査、分析、評価テスト、設置、保守をご提供します。
排水リサイクルシステム導入の流れ
ご依頼を受けた工場などに現地調査にお伺いし、既存排水設備の状況、現在の運転状況やメンテナンスを直接観察し、現場の関係者にヒアリング等を行い、排水のサンプリングを採取します。
現地調査のヒアリングから、排水システムの制御・運営方法などについて適切性確認・改善提案など分析を行います。評価テストにおいては、設置ならびに計測に係る諸データをテーブルテスト分析をし、システム構成および工法の類型化を図り、システム設置コストの低減等を推進するとともに、取得した運転データ等を集約、分析・評価して、排水リサイクルシステム導入に有用な資料として取りまとめ報告します。
分析・評価テストからのデータを活用し、水質汚濁防止法に基づいた排水の分析データに適正に運用されるように、また中和槽、凝集槽、沈殿槽の流用バランスの確保、廃水処理改修方法などを盛り込み、各工場に適合する排水リサイクルシステムを設計・導入します。
半導体製造工場のクリーニング用CLF3ガスを直接除外する湿式排ガス処理装置の排水量を減らし、産廃処分費の削減に貢献しました。
サンプリングしてきた排水液を凝集処理テストし、原水濃度変化に対して凝集性に影響がないか確認しました。また、原水濃度変化に対してHF処理性能に影響がないことをテーブルテストしました。
排水リサイクル システム有無 |
給水 (単価350円/m3) |
排水 (産廃単価25,000円/m3) |
薬品 (NaOH単価33円/L) (凝集剤単価35円/L) |
ランニング費用 | |||
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給水量 | 給水費用 | 排水量 | 排水費用 | 薬品量 | 薬品費用 | ||
導入前 | 2.7m3/日 | 945円 | 3.02m3/日 | 75,500円 | NaOH 320L/日 |
10,560円 | 87,005円/日 |
導入後 | 0.23m3/日 | 81円 | 0.70m3/日 | 17,500円 | NaOH 320L/日 |
11,880円 | 33,311円/日 |
凝集剤 110L/日 |
3,850円 | ||||||
導入効果 | - | ▲864円 | - | ▲58,000円 | - | +5,170円 | ▲53,694円/日 ▲19,598,000円/年 |